半导体材料的生产的基本工艺（如晶体生长、芯片刻蚀、清洗、抛光等）需使用大量化学试剂，如酸碱清洗剂、光刻胶、蚀刻液（含氮、磷化合物）等，这些过程会产生工业废水，其中可能包含：cod废水中未完全反应的有机物（如有机溶剂、光刻胶残留），反映水体中还原性物质的污染程度，氨氮/总氮

  ：来自含氮试剂（如胺类清洗剂、硝酸类蚀刻液）的残留，或有机物分解产生的含氮化合物；总磷

  若排放超标，企业将面临罚款、停产整顿甚至吊销执照的风险；对于向水体（河流、湖泊）直接排放或接入市政污水处理厂的废水，需满足当地排放标准（如我国要求氨氮≤15mg/L、总磷≤0.5mg/L 等，不一样的地区可能更严格）；部分地区还要求企业定期公开监测数据，接受环保部门监管。

  本次服务的客户是河北一家新材料有限公司，他们主要检验测试的指标是水质中的cod氨氮总磷总氮等指标，想实时监测其含量是不是达到其要求，需要一台多功能的水质检验测试仪器，通过和我们生产厂家技术人员的交流，最终选择了天尔这台TE-5800实验室水质测定仪，这台仪器采用的是360度旋转比色管检测系统，可快速检测水质中的指标，30分钟左右就可以出结果，通过我们生产厂家技术人员的上门培训指导，客户的技术人员很快掌握了操作方法，并且对水样进行了测试，达到了其排放的要求，对仪器的精准度非常满意。

  公司成立以来，为满足广大新老客户的需求，产品一直更新完善，功能上不停地改进革新升级，操作上更加智能化、人性化、简单化，目前已经陆续研发出可检测COD、氨氮、总磷、总氮、浊度、悬浮物、重金属、BOD、溶解氧、电导率、PH、水中油等70多项污染物的仪器，大范围的应用于污水厂、环境监视测定部门、科研院校、石油化学工业、医疗行业、造纸、电镀、电力等行业和领域。